2026深圳國際光刻設(shè)備與光掩膜展會
時間：2026年4月9-11日   
地點：深圳會展中心（福田）
展會背景
微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動力，21世紀光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來,在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。
隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高端芯片的集成度達到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管，推動芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展，在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進封裝工藝發(fā)展需求的情況下，先進的大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為先進封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。由上海訓(xùn)通展覽有限公司于眾多協(xié)會攜手在深圳會展中心舉辦“2026深圳國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會暨發(fā)展論壇”，歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀！  
日程安排：
報道布展：2026年4月07-08日        開幕式：2026年4月09日09：30
展示交易：2026年4月09-11日        撤  展：2026年4月11日15：00
展品范圍：
◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等；
◆光刻機、光刻技術(shù)、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術(shù)、無掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無機芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等；
◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測試等； 
參展事項
1、參展單位詳細填寫好《參展合同表》并加蓋公章，郵寄或傳真至組委會；
2、組委會收到確認申請表，參展商于3個工作日內(nèi)將參展費用50%或全款匯入組委會帳戶，并將匯款憑證傳真至組委會以便查對，否則不予保留預(yù)訂展位。
3、展位安排以“先報名、先交款、先安排”為原則，組委會有權(quán)對少量展位予以調(diào)整；
4、展品運輸、展會接待、住宿等事宜將在開展前一個月組委會另行發(fā)送《參展商手冊》。
 2026深圳國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展組委會 
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